多功能试样表面处理机是一种用于扫描电镜和电子探针的样品制备设备，可用于真空碳蒸镀、真空镀膜和离子溅射，在高纯氩气保护下也可用于各种离子处理。本设备处理后的样品既可用于样品的外观观察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本仪器配备机械泵和分子泵，分子泵系统特别适用于对真空度要求高、真空环境好的用户。多功能试样表面处理机将硅片放入真空反应系统，通入少量氧气，加1500V高压，高频信号发生器产生高频信号，从而形成强电磁场石英管中，氧气被电离，形成由氧离子、活性氧原子、氧分子和电...

蠕动泵是一种可控制流速的液体输送装置，具有输送精度高、较强的耐腐蚀性、剪切作用小、操作简单及易于维护等优势，所以广泛应用在科研、制药、化工、环保、饮料、食品、印刷等各领域。其在科研实验室常被用于细胞组织输送、标本脱色、灌注、液体色谱分析以及酸性或碱性溶液输送等。实验室领域蠕动泵在小体积流体分配和计量方面具有很好的重复性精度。无需安装任何阀，消除了流体常见的阻塞及虹吸现象。实验室研发过程中常见的应用场合有：细胞组织输送、标本脱色、灌注、液体色谱分析以及酸性或碱性溶液输送。食品、...

管式炉炉管内的压力应保持在1个标准大气压，不得低于1个标准大气压或大于0.02MPa。这种方法可以保证炉管内的压力在这个范围内，气瓶必须配备减压阀。建议选择0-0.6mpa范围的减压阀。不要选择大范围的减压阀（如0-2.5mpa），这样不准确，容易爆裂石英管。减压阀开到0-0.05mpa为宜，不能超过0.05Mpa。当管式炉炉温超过1000℃时，不允许在炉管内进行真空烧结。最好保持微正压状态，保护烧结气氛。建议长时间使用的石英管温度不超过11​​00℃。如果您担心气压太高或燃...

箱式炉采用双层外壳结构和PID程序控温系统，移相触发，可控硅控制。该炉采用氧化铝多晶纤维材料制成，双层炉壳之间装有风冷系统，可快速升降温。外壳整体密封，盖板用硅胶泥密封，炉门用硅胶垫片密封，气体通过流量计后进出后室。多炉进出口，可预抽真空，可通氩、氮气、氧气、惰性气体等。炉具有温度场平衡、表面温度低、升降温速度快、节能等优点，是大专院校、科研院所、工矿企业进行气氛保护烧结和气氛还原的理想产品。1、可接触气体：所有惰性气体、氮气、氩气、氧气、二氧化碳、水蒸气等。2、外观设计：采...

管式炉是在沉底材料上生长优质石墨烯、碳纳米管和碳化硅的专用设备，广泛应用于半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、涂层等新材料和新工艺。它在使用前需要做好哪些准备工作呢？1、设计温度升降曲线。升温速率不得高于10℃/min，降温速率应低于15℃/min。2、清洁环境。3、每周开始使用时，检查机械泵油路是否在标线以上，取下两端盖板，用吸尘器清洁刚玉炉管。4、将样品舟推入刚性管式炉中间（恒温长度10cm）。5、塞住两个绝缘炉塞，使第二个炉塞的末端与炉体侧面齐平。6、安装燃气炉法兰，确认...

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀...

喷涂一直存在于我们的生活中，长期以来被用于多种用途，包括喷涂装饰性和保护性涂料。因此，它是材料科学家制备薄膜的又一工具。在喷涂中，喷嘴尺寸、喷涂形状、喷嘴到基材的距离、喷涂速度和喷涂过程中基材的加热都是可控的参数，以达到理想效果。使用超声波雾化模块，可使喷雾溶液均质化，雾滴大小得到有效控制（喷嘴频率会影响雾滴大小），可分布微雾量，从而保证成分和结构的均匀性和所得薄膜和图案的准确性。材料浪费保持在低限度，设备操作人员的风险很小。超声波雾化模块的工作原理是利用超声波换能器将高频声...