就像把石头扔进平静的湖水会溅出水一样，用高速离子轰击固体表面会使近表面的原子（或分子）从固体表面逃逸。这种现象称为溅射现象。溅射意味着具有足够高能量的粒子轰击固体表面以发射原子。早期的人们认为，这种现象源于目标的局部加热。然而，人们发现溅射和蒸发有本质区别，人们逐渐认识到溅射是轰击粒子与靶粒子之间动量传递的结果。小型磁控射频溅射镀膜仪磁控溅射利用磁场束缚电子的运动，提高电子的电离率。与传统溅射相比，具有“低温”和“高速”两大特点。磁控射频溅射镀膜仪具有小型化、标准化的特点。磁...

高真空蒸发镀膜仪采用前开门真空室设计，室高增加到500mm。样品台与蒸发源之间的距离有较大的调节范围，可适应多种蒸发要求，避免样品在蒸发源中高处损坏。高真空蒸发镀膜仪配有四套钨舟蒸发源和水冷铜电极。每个蒸发源支持100A的大电流和1800°C的加热温度，可实现多层涂装或多种材料混合涂装。型腔采用上样品台，样品台可旋转、加热、升降，所有操作均可通过触摸屏集成控制。设备真空系统为两级旋片泵和涡轮分子泵组成的两级真空系统，可提供洁净无油的高真空环境。该设备配有气动阀门系统。通过操作...

多功能试样表面处理机是一种用于扫描电子显微镜和电子探针样品制备的设备。可在高纯氩气保护下进行多种离子处理。也可以对碳和金属进行真空蒸镀。该设备处理的样品既可用于样品的形貌观察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更适合。该设备采用分子泵和机械泵组成的高真空单元系统。试样以三种方式移动：平面旋转、倾斜旋转和倾斜进动。多功能试样表面处理机功能可以赋予材料新的表面特性。这些特性随时间逐渐衰减的特性称为老化。一般认为，等离子体表面处理对材料的影响涉及到表面活化、交联、表面蚀刻等多个...

热喷涂镀膜设备溅射镀膜是将基体和靶材置于真空腔内，用电子或高能激光轰击靶材，使表面成分以原子团或离子的形式溅射出来，沉积在表面基板，通过成膜工艺形成薄膜。粉末压制烧结法和粉末热等静压法常用于小尺寸平面靶材的生产。前者制作的靶材纯度较低，而后者制作工艺复杂，特别是在合金靶材的生产中，成分不*均匀。靶材的大尺寸和高利用率是涂层领域的新趋势，热喷涂镀膜设备等离子喷涂的诸多特点显示出其在生产大尺寸、高利用率靶材方面的*优势。1、等离子喷涂火焰温度高，热量集中，几乎可以熔化所有高熔点粉...

高真空蒸发镀膜仪是一种高真空蒸镀机，特别适用于对氧敏感的金属薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸镀，也适用于各种氧化物材料的蒸镀。本机配备四只蒸锅，每只蒸锅均配有挡板，如果改变部分配置，还可以实现有机材料的蒸镀，可以满足发光器件和有机太阳能电池的研究需求，是一种涂装效果理想的实验设备。原理：基于电阻蒸发原理，利用大电流对钼舟或钨蓝或固定支架上的镀膜材料进行加热，使其在高真空下蒸发并沉积在镀膜样品上，以获得最佳镀膜效果。采用大抽速、高压缩比、自然风冷却复合分子泵，保证电镀时蒸发源和...

双温区管式炉采用精密钢板制作，表面静电喷塑，外形美观。工作室由刚玉管制成，加热元件根据温度需要匹配（硅碳棒或硅钼棒），保温材料为轻质保温保温加硅酸铝耐火纤维棉，与电炉配套的温控部分采用PID可调智能仪表控制可对多个程序段进行编程控制产品的烧成过程，并具有过流、限流、过热等保护功能。双温区管式炉主要用于高校实验室、工矿企业实验室，用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的开发、晶体硅衬底涂层、金属材料扩散焊和真空或气氛中热处理等设备必须按照操作规范使用，还应注意以下几点：1、检查...

立式真空水淬炉是源于钛合金材料在航天航空领域大量使用而研发制造的，主要针对α+β型钛合金材料真空加热之后快速淬火(固溶处理)的一种新型热处理设备。大家都知道，钛的密度为4.51g/cm3，钛合金很轻，如Ti-6Al-4V的密度仅为4.42g/cm3，钛合金材料经固溶处理再时效强化后的比强度远高于高强度铝合金、镁合金、高温合金和高强度结构钢，甚至与超高强度钢相当，因此被广泛应用于航空航天、船舶、生物医用、化工、汽车等领域。如美国F-22战机上钛合金的用量已高达41%，而铝合金和...